你知道芯片半導體清洗用水有什么要求嗎

半導體中的雜質對電阻率的影響非常大。半導體中摻入微量雜質時，雜質原子附近的周期勢場受到干擾并形成附加的束縛狀態。

一.半導體芯片清洗超純水設備水質標準

半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

二.半導體清洗超純水設備制備工藝：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

3、預處理→一級反滲透→加藥機(pH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

三.半導體清洗超純水設備應用領域：

1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

2.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

3.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

4.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

5.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

6.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

7.集成電路生產中高純水清洗硅片

8.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10.高品質顯像管、螢光粉生產

11.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

12.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

13.實驗室和中試車間

14.汽車、家電表面拋光處理

15.光電產品、其他高科技精微產品

超純水系統總體來說一般可分為三個部分：超純水制造區(CUB部分)、超純水拋光循環區(FAB部分)、超純水輸送管網(FAB各使用區)。